琪琪今天给分享ccp和icp刻蚀区别的知识，其中也会对icp和rie刻蚀进行解释，希望能解决你的问题，请看下面的文章阅读吧！

1、RIE: 单一的射频源，无法实现适当刻蚀速率下的低损伤刻蚀，工作气压高，不利于控制刻蚀形貌，等离子体密度低，无法获得高刻蚀速率。

2、ICP：两个的射频源，可以实现高速率和低损伤刻蚀，工作气压低，利于控制形貌，等离子体密度高。

本文到这结束，希望上面文章对大家有所帮助。